近来我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、传统的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蚀刻废液中

近来我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、传统的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．其中几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

（1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：
Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有______、______．（用离子方程式表示）
（2）HCl-H2O2型蚀刻液在蚀刻电路板过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：
______．
（3）H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中加入的试剂A的最佳选择是下列中的______（填序号）．
①酸性KMnO4溶液?? ②NaCl（固）????③甲醛????④葡萄糖
（4）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时产品颜色发暗，其原因可能是______．

解：（1）FeCl3型酸性废液中含有Fe3+和Fe2+，Fe3+具有氧化性，可与Fe反应，离子方程式为Fe+2Fe3+=3Fe2+，Fe2+具有还原性，可与Cl2反应，离子方程式为2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-，
故

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