x射线曝光与传统的光学曝光有什么本质区别

答案:1 悬赏:30 手机版

解决时间 2021-03-20 16:25

提问者网友：一抹荒凉废墟
2021-03-19 23:03

最佳答案

五星知识达人网友：由着我着迷
2021-03-20 00:32

你说的应该是光刻机里曝光吧，光刻机里的投影透镜系统由数十片光学透镜组成，光学像差已经基本消除，达到衍射受限系统的要求，拿最高端ASML光刻机来说，它的镜头一直都是卡尔蔡司提供的，高端的机器一般用到20多片的镜头来达到要求。但是受限于衍射理论，在不存在像差的情况下，光刻的分辨率（也就是芯片电路布线的宽度，比如现在的16nm，10nm制程）与曝光波长成线性正比，也就是波长越小成像的斑点越小，分辨率越高，学过艾里斑的应该都知道。传统的曝光已经是比较先进的193纳米的ArF准分子激光，为了应对未来的升级，艾斯迈尔（ASML，荷兰）研发了商用级别的极紫外EUV系列光刻机，是利用二氧化碳激光激发锡滴产生的13.5nm的软x射线，单价达数千万美元，那么理论上比193nm的光源，分辨率将提升了10倍以上，但是由于适用于x射线波段的透镜材料比较难找，所以这也是个关键问题，实际得提升并没有这么多。不过三家芯片巨头的投资并没有白费，预计2017年左右可以正式投入产线，极紫外EUV扫描投影式光刻机代表了当今世界最高精尖的生产工艺，几乎所有高端芯片将来都会由它莱生产！

我要举报

如以上回答内容为低俗、色情、不良、暴力、侵权、涉及违法等信息，可以点下面链接进行举报！

点此我要举报以上问答信息