直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊？最好详细解释一下

直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊？最好详细解释一下

1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的。详细解释只能去看书，还不让粘贴，没人会找本书来给你慢慢敲在这里
2 这个说法不对。直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材），并不局限于金属。譬如，对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层，造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法进行。这时候，就需要射频电源，简单的说，用射频电源的时候，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒。

去找本书，《薄膜科学与技术》，里面解释的还行。或者半导体设备的书里面也会有涉及

交流的贵啊，直流的便宜

如以上回答内容为低俗、色情、不良、暴力、侵权、涉及违法等信息，可以点下面链接进行举报！

点此我要举报以上问答信息