氨纶是什么材料,用什么隔离两块磁铁之间的力？
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解决时间 2021-07-26 11:17
- 提问者网友：疯子也有疯子的情调
- 2021-07-26 03:40
氨纶是什么材料,用什么隔离两块磁铁之间的力？
最佳答案
- 五星知识达人网友：猎心人
- 2021-07-26 04:59
将一块磁铁用金属盒子罩起来，即磁屏蔽。
磁屏蔽
磁屏蔽理论和实践
1 引言
在低频（DC到100KHz）磁屏蔽中，设计低成本屏蔽体的最关键因素是对磁屏蔽的透彻理解。其目的是要达到减少所规定的磁场，
这样使其对所屏蔽的器件或系统不形成威胁。一旦这一目标被确定，就应考虑会影响到屏蔽体的低成本设计的一些基本设计因素。这些包括：
材料的选择、主要设计参数和加工工艺。
2 材料的选择
对于屏蔽体来说，所选择的材料的类型对其性能和成本影响极大。在设计屏蔽体时有一点是重要的，就是要深入了解普通使用的不同屏蔽
合金的特性。对这些不同性能的理解就可使你选择合适的材料，去满足目标要求。
磁屏蔽材料要根据各自的特性进行选择，特别是磁导率和磁饱和性能。由于在变更低频磁场方向的效能，所以高磁导率材料（比如含80
％的镍合金Mumetal,这是一种高磁导率铁镍合金）是经常使用的屏蔽材料。这些合金可满足MIL－N－14411C部分1和ASTM A
753－97样式4的要求。其可得到的相对较薄的厚度为0.002到0.125英寸，并极易被有经验的屏蔽加工者加工出来。
在需要于极小空间内降低磁场时，典型上使用这些合金。在需要提供比要求更高屏蔽时，或是磁场强度（在较高场强时更为典型）需要具
有更高饱和值材料时，这些材料常被选中。
在屏蔽目标仅需要稍微减少场强时（减少1～1／4），或是当场强足以使高磁导率屏蔽体饱和时，超低碳钢（ULCS）可能是最佳的
选择。这些较低成本材料的碳含量典型小于0.01％；与其它钢相比，其有较高的磁导率和极优的饱和性能。这些材料具有较小的柔韧性，并比
硅钢较容易制造，这就允许在大面积屏蔽项目中容易安装和以同样的方式加工出小型组件。ULCS可与高磁导率材料一起使用，以为需要高
饱和保护和高衰减等级建立最佳的屏蔽体。
对于低温用的屏蔽体，Cryoperm 10（为德国Vaccumschmelze GmbHg公司的注册商标）为一种最佳选择。与Mumetal一样，Cryoperm
10也是一种高磁导率镍铁合金，它是经特殊加工而成的，以提供在降低温度时磁导率增加。标准的屏蔽合金（比如Mumetal）在低温时就
失去了其大部分磁导率。但是Cryoperm10可在77.3到4.2°K时的磁导率却增加10倍。表1示出了最常用的屏蔽材料的磁导率饱和值的比
较。
饱和
磁导率
材料
（高斯）
μ（最大）
μ（40）
Amumetal（80%镍）
8，000
400，00
60，000
Amunickel（48%镍）
15，000
150，000
12，000
Cryoperm10
9，000
250，000
65，000
超低碳钢
22，000
4，000
1，000
表1 由于材料的成本占屏蔽体价格的一半，所以使用较薄的尺寸能满足所要求的屏蔽特性和结构性能是最好了。厚度为0.002到0.010英寸的箔材是最低成本的选择。这些箔材能以同等的化学组分和性能特性获得，并可作为标准的以镍为基础的和ULCS材料。
设计低成本屏蔽体的最重要的一步，就是对这些典型屏蔽材料特性及其对屏蔽性能影响的了解。一旦合适的材料被选中，其重点要集中于基本的设计考虑，以使其不但性能最佳，而且对成本的影响最小。
3 设计考虑
大部分屏蔽体用的公式和模型的开发是基于圆形或无限长的圆柱体几何形状的。在实际应用中，所给定屏蔽体的实践形状由器件结构和屏蔽体自身的可利用空间所决定。在设计一屏蔽体时，要了解的重要的......余下全文>>
磁屏蔽
磁屏蔽理论和实践
1 引言
在低频（DC到100KHz）磁屏蔽中，设计低成本屏蔽体的最关键因素是对磁屏蔽的透彻理解。其目的是要达到减少所规定的磁场，
这样使其对所屏蔽的器件或系统不形成威胁。一旦这一目标被确定，就应考虑会影响到屏蔽体的低成本设计的一些基本设计因素。这些包括：
材料的选择、主要设计参数和加工工艺。
2 材料的选择
对于屏蔽体来说，所选择的材料的类型对其性能和成本影响极大。在设计屏蔽体时有一点是重要的，就是要深入了解普通使用的不同屏蔽
合金的特性。对这些不同性能的理解就可使你选择合适的材料，去满足目标要求。
磁屏蔽材料要根据各自的特性进行选择，特别是磁导率和磁饱和性能。由于在变更低频磁场方向的效能，所以高磁导率材料（比如含80
％的镍合金Mumetal,这是一种高磁导率铁镍合金）是经常使用的屏蔽材料。这些合金可满足MIL－N－14411C部分1和ASTM A
753－97样式4的要求。其可得到的相对较薄的厚度为0.002到0.125英寸，并极易被有经验的屏蔽加工者加工出来。
在需要于极小空间内降低磁场时，典型上使用这些合金。在需要提供比要求更高屏蔽时，或是磁场强度（在较高场强时更为典型）需要具
有更高饱和值材料时，这些材料常被选中。
在屏蔽目标仅需要稍微减少场强时（减少1～1／4），或是当场强足以使高磁导率屏蔽体饱和时，超低碳钢（ULCS）可能是最佳的
选择。这些较低成本材料的碳含量典型小于0.01％；与其它钢相比，其有较高的磁导率和极优的饱和性能。这些材料具有较小的柔韧性，并比
硅钢较容易制造，这就允许在大面积屏蔽项目中容易安装和以同样的方式加工出小型组件。ULCS可与高磁导率材料一起使用，以为需要高
饱和保护和高衰减等级建立最佳的屏蔽体。
对于低温用的屏蔽体，Cryoperm 10（为德国Vaccumschmelze GmbHg公司的注册商标）为一种最佳选择。与Mumetal一样，Cryoperm
10也是一种高磁导率镍铁合金，它是经特殊加工而成的，以提供在降低温度时磁导率增加。标准的屏蔽合金（比如Mumetal）在低温时就
失去了其大部分磁导率。但是Cryoperm10可在77.3到4.2°K时的磁导率却增加10倍。表1示出了最常用的屏蔽材料的磁导率饱和值的比
较。
饱和
磁导率
材料
（高斯）
μ（最大）
μ（40）
Amumetal（80%镍）
8，000
400，00
60，000
Amunickel（48%镍）
15，000
150，000
12，000
Cryoperm10
9，000
250，000
65，000
超低碳钢
22，000
4，000
1，000
表1 由于材料的成本占屏蔽体价格的一半，所以使用较薄的尺寸能满足所要求的屏蔽特性和结构性能是最好了。厚度为0.002到0.010英寸的箔材是最低成本的选择。这些箔材能以同等的化学组分和性能特性获得，并可作为标准的以镍为基础的和ULCS材料。
设计低成本屏蔽体的最重要的一步，就是对这些典型屏蔽材料特性及其对屏蔽性能影响的了解。一旦合适的材料被选中，其重点要集中于基本的设计考虑，以使其不但性能最佳，而且对成本的影响最小。
3 设计考虑
大部分屏蔽体用的公式和模型的开发是基于圆形或无限长的圆柱体几何形状的。在实际应用中，所给定屏蔽体的实践形状由器件结构和屏蔽体自身的可利用空间所决定。在设计一屏蔽体时，要了解的重要的......余下全文>>
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