cf4和c4f8哪个气体刻蚀氧化层快
答案:1 悬赏:40 手机版
解决时间 2021-03-17 06:36
- 提问者网友：浩歌待明月
- 2021-03-17 00:25
cf4和c4f8哪个气体刻蚀氧化层快
最佳答案
- 五星知识达人网友：洎扰庸人
- 2021-03-17 01:14
超过150(即多晶硅化物与栅极氧化层的刻蚀速率比为...将含碳的氟化物加入等离子体中(CF4、CHF3、C4F8)...腐蚀速率快,各向异性好且成本低,反应离子刻蚀的腐蚀
我要举报
如以上回答内容为低俗、色情、不良、暴力、侵权、涉及违法等信息，可以点下面链接进行举报！
点此我要举报以上问答信息
大家都在看
推荐资讯