清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一.硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一.硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机

答案:

（1）Si+2OH^一+H₂O=SiO₃^2-+2H₂↑；NaOH （2）氧化 催化 活化能 氧化

（3）b　（4）让氢气排尽装置内的空气，避免空气中的成分对实验的影响　该反应为放热反应，可利用自身放出的热量维持反应进行　（5）①Mg₂Si＋4HCl=2MgCl₂＋SiH₄↑　②SiH₄＋2O₂=SiO₂↓＋2H₂O。

【解析】

试题分析：（1）晶片制绒反应的离子方程式Si+2OH^一+H₂O=SiO₃^2-+2H₂↑；在该反应中氧化剂为NaOH。（2）碱性水溶液条件下，H₂O可作氧化剂，NaOH作催化剂降低反应活化能；高温无水环境下，NaOH作氧化剂。（3）由于氧气的存在对该实验有较大影响，实验中应通入还原性气体X作为保护气，试管中的固体药品可选用锌粒，是其发生反应产生H₂，为反应的顺利进行创造有利的条件。选项为b . （4）实验开始时，必须先通入X气体，再加热反应物，是为了让氢气排尽装置内的空气，避免空气中的成分对实验的影响　该反应为放热反应，可利用自身放出的热量维持反应进行。（5） 反应结束后，待冷却至常温时，往反应后的混合物中加入稀盐酸。可观察到闪亮的火星，产生此现象的原因是①Mg₂Si＋4HCl=2MgCl₂＋SiH₄↑　②SiH₄＋2O₂=SiO₂↓＋2H₂O

考点：考查硅晶片制作过程的清洗、制绒等的化学反应原理的知识。

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