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两个问题:1、H可以作为掺杂杂质注入半导体硅中么?是N型还是P型?2、相关机理是?

答案:1  悬赏:0  手机版
解决时间 2021-03-27 19:40
  • 提问者网友:温柔港
  • 2021-03-27 15:25
两个问题:1、H可以作为掺杂杂质注入半导体硅中么?是N型还是P型?2、相关机理是?
最佳答案
  • 五星知识达人网友:何以畏孤独
  • 2021-03-27 16:36
1、不可以。
2、氢一共就一个电子,原子核的力量太强了。
3、从掺杂技术上看,主要是热扩散和注入技术,从工艺角度来看,氢也不适合采用这两种技术。追问1、不可以。---注入的氢可不可以替代si晶格位置,或者说能不能与si原子形成共价键

2、氢一共就一个电子,原子核的力量太强了---你这里说的力量太强是什么意思?成为自由电子需要能量高?如果能与硅产生共价键作用的话,能不能降低束缚?
3、从掺杂技术上看,主要是热扩散和注入技术,从工艺角度来看,氢也不适合采用这两种技术。---注入为什么不适宜呢?注入后通过适当退火是否合适?
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