紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么
答案:2 悬赏:20 手机版
解决时间 2021-03-08 01:12
- 提问者网友：愿为果
- 2021-03-07 18:03
紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么
最佳答案
- 五星知识达人网友：封刀令
- 2021-03-07 19:10
半导体工艺——光刻紫外负性光刻胶显影液：二甲苯.清洗液：乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯.显影中的常见问题：a、显影不完全（Incomplete Development）.表面还残留有光刻胶.由显影液不足造成.b、显影不够（Under Development）.显影的侧壁不垂直.由显影时间不足造成.c、过度显影（Over Development）.靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解,形成台阶.由显影时间太长造成.
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- 1楼网友：慢性怪人
- 2021-03-07 20:10
我明天再问问老师，叫他解释下这个问题
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