露光机工作原理

露光机工作原理

微小电气机械系统技术简称为MEMS,它被视为将成为下一个世代产业的基础而受到瞩目,最近几年在市场上急速的扩展。
MEMS的技术和半导体的产业相比更是细微化的技术,因此有必要更精确的焦距调整来因应厚膜的阻抗及高段落的差异因此开发出MEMS用将分辨率及焦距调整为最适当的缩小投影曝光装置。
另外为了能够充分利用运作时无尘室空间所花费的成本,因此我们更加的要求降低MEMS用曝光装置所占的面积,所以在MEMS特殊的制造工程上有必要结合芯片内面的调整标志的曝光装置。
NIKON ENGINEERING股份有限公司在1995年,开始贩卖磁头的ABS加工用曝光装置获得了很高的评价,这次开始发行的「小型曝光机 NES1-h04」是将以前的缩小投影曝光装置的技术为基础,并且针对MEMS制造时的需求所开发出的新产品。

特点：

1.搭配了适合MEMS用新开发的投影镜头
MEMS用缩小投影曝光装置,实现了MEMS制造时所必要的分辨率20μm L/S,曝光范围15mm x 15mm的功能,同时依据最适当的数值孔径来准确的调整最适当的焦点,同时也能够因应所展生的阻抗及高段落的差异。
※2 k=0.6 的处理作为 1.5 μ m L/S 的分辨率可以使用的。

2.世界最小的占用面积
MEMS的机体实现了占有体积1.3㎡令人不可置信的世界最小体积,即使是加装上芯片输入程序,所占的体积也才1.9㎡,对于改善无尘室使用效率及降低运作的成本有很大的帮助。

3. 可以搭配内部调整标志的功能(选配)
搭配了芯片内部的调整标志功能,调整为0.8μm ( +3σ)的精确度也可以曝光,也可以依据需求特别订做。

4. 搭配量产的处理量
采用显微镜台来重新检测,同时采用明亮的照明系统,1小时内可以处理150mm60张芯片。
分辨率 2.0 μ m
投影 LENS 缩小倍率 -1/2.5 倍
NA （开口数） 0.16
曝光范围 15 mm × 15 mm
曝光波长 405nm
对准精度 0.3μm以下（ +3σ,使用时）
样品尺寸 φ 50 mm(2 in.) ~150mm(6 in.)
处理能力 φ150mm芯片60枚/时
尺寸（W × D × H ） 980 × 1330 × 2100 mm
重 量 1,600kg

找到汽油机的怠速螺丝，全部拧到底，然后向外旋转2.5圈，如果有测怠速的更好一些，怠速是1400转/分。 抹光机也称为收光机，它的主要结构是一个汽油机驱动的抹刀转子，在转子中部的十字架底面装有抹刀。抹刀倾斜方向与转子旋转方向一致，由汽油机带动三角皮带使抹刀转子旋转。操作时，先打着火，握住操纵手柄，两个一起往前推是往前移动，一起往后拉是往后移动。平均每小时能做100～300m2，与人工抹光比较可提高工效30倍以上。

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