请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?超声起作用需要一个过程吗
答案:2 悬赏:60 手机版
解决时间 2021-03-12 12:34
- 提问者网友：人傍凄凉立暮秋
- 2021-03-11 19:02
请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?超声起作用需要一个过程吗
最佳答案
- 五星知识达人网友：英雄的欲望
- 2021-03-11 19:20
冒泡是超声波引起的气化空泡,不是光由清洗机引起的,清洗剂要水流有落差后才能不断产生泡沫,还有部分泡沫是硅和碱性清洗剂反应生成的氢气,超声是慢慢作用于硅片表面的,槽体内的水量会影响超声波电流大小,还有时间长一点超声作用也会明显点,硅片间缝隙越大超声效果也越好
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- 1楼网友：由着我着迷
- 2021-03-11 19:37
这个问题我还想问问老师呢
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